影響等離子清洗效果的因素有很多，其中最主要的是電源功率頻率、工作壓強、工作氣體種類以及清洗的時間。等離子清洗的效果會隨著功率的增大而變好;工作壓強的選擇要根據清洗的基片進行合理選用，當以物理作用為主時應減小壓力以增大離子能量，當以化學作用為主時要增大一些壓力，保證反應氣體濃度，清洗時間也要保證清洗效果的同時減小能耗。

電極對等離子清洗效果影響

電極的設計對等離子清洗效果有著顯著的影響，主要包括電極的材料、布局和尺寸等因素。對于內電極等離子清洗系統，由于電極暴露在等離子體中，某些材料的電極會被一些等離子體刻蝕或發生濺射現象，造成不必要的污染并導致電極尺寸的變動，進而影響等離子清洗系統的穩定性。

電極的布局對等離子清洗的速度和均勻性有較大影響，較小的電極間距能夠將等離子體限制在狹小的區域從而獲得較高密度的等離子體，實現較快速度的清洗。隨著間距的增加清洗速度逐漸下降但均勻性逐漸增強，電極的尺寸通常決定了等離子系統的整體容量，在電極平行分布的等離子清洗系統中，電極通常作為托盤使用，較大尺寸的電極能夠一次清洗更多的元器件，提高設備的運行效率。

工作壓強對等離子清洗效果的影響

工作壓強是等離子清洗的重要參數之一，壓強的提高意味著等離子體密度的增加和粒子平均能量的降低，對化學反應為主導的等離子體，密度的增加能顯著提高等離子系統的清洗速度，而物理轟擊主導的等離子清洗系統則效果并不明顯。此外，壓強的改變可能會引起等離子體清洗反應機理的變化。如硅片刻蝕工藝所采用的CF4/O2等離子體，當壓強較低時離子轟擊起主導作用，而隨著壓強的增加，化學刻蝕不斷加強并逐漸占據主導作用。

電源功率及頻率對等離子清洗效果的影響

電源的功率對等離子體各參數都有影響，比如電極的溫度、等離子體產生的自偏壓以及清洗效率等。隨著輸出功率的增加，等離子清洗速度逐漸加強，并逐漸穩定在一個峰值，而自偏壓則隨著輸出功率的增加不斷上升。由于功率范圍基本恒定，頻率是影響等離子體自偏壓的關鍵參數，隨著頻率的增加自偏壓逐漸下降。此外，隨著頻率的增加等離子體中電子的密度也會逐漸增加，而粒子平均能量逐步下降。

工作氣體的選擇對等離子清洗效果的影響工藝氣體的選擇是等離子清洗工藝設計的關鍵步驟，盡管很多時候大多數氣體或氣體混合物都能對污染物起到去除作用，但清洗速度卻能相差幾倍甚至幾十倍。