等離子清洗是低溫等離子體的主要應用之一，屬于干法清洗范疇。等離子體有很多種產生方式，例如氣體放電、光電離、激光等，不同的產生方式，等離子體的能量、密度等性質也不同，根據其不同性質在工業中應用于清洗、刻蝕、材料表面改性等。

等離子清洗機中的等離子體是如何產生的？

就等離子清洗機而言，氣體放電是最常用的方式。氣體放電分為多種類型，如自持放電、火花放電、輝光放電、高頻放電、低頻放電、微波放電、脈沖放電等。以下就兩種等離子清洗機所采用的氣體放電方式展開介紹：

• 低頻放電

低頻放電的頻率一般在50～500KHz，其原理是在電極間利用低頻電場激發產生等離子體，這種方式在材料表面改性中大量應用。低頻放電由于交流電場作用，其放電電壓遠低于直流放電，并且隨著頻率的提高放電電壓和維持電壓降低，低頻放電的放電模式與頻率相關，頻率較低時，和直流輝光放電類似，此時電子和離子移動距離短，電離度低；當頻率提高到一定數值，電子和離子在電極間振蕩運動，移動行程增大，與氣體分子發生碰撞的機率增大，電離度提高。目前市面所售的等離子清洗機有低頻放電方式，頻率為40KHz，低頻放電符合輝光放電的特性，與射頻放電相比，電流很小，不存在阻抗匹配的問題，結構簡單，多為電容耦合結構，因此電極的二次污染問題仍然存在。

• 高頻放電

高頻放電又稱射頻放電，其放電頻率通常在10-100MHz之間。在放電過程中放電方向隨著電極極性的調換而調換。在電源放電頻率較低的時候放電會不穩定，隨著電源放電頻率的增大，當頻率增大一定程度后就會開始穩定放電。在高頻放電的過程中，帶電粒子在高頻電場的作用下在兩極板間運動。因為離子運動的軌跡很長，所以在較長的運動軌跡內分子互相碰撞概率會得到增大，由此高頻放電的電離度相比于輝光放電會高很多。目前射頻放電的國際通用標準頻率為13.56MHz。根據耦合方式分類，大致可以分為兩種，一種是電容耦合另一種是電感耦合。電容耦合大多采用內置的平板電極模式，放電時在兩極板上加射頻電源，在兩極板間氣體激發產生等離子體。與之不同的是電感耦合大部分利用外電極放電，其原理是應用電磁感應將感應線圈纏繞在放電腔體外部激發出二次電場，從而激發腔體內的氣體產生等離子體。這兩種耦合方式各有優劣。

以上是等離子清洗機常采用的產生等離子體的氣體放電方式，對于常壓類等離子清洗設備而言，一般采用電弧放電，DBD介質阻擋放電等氣體放電方式產生等離子體。